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真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。

真空箱式爐LFM1200C 91VC系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。

真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。

高溫熱處理設備是一款小型混合箱式/管式爐，作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環境下進行熱處理，作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理

LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料，采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業對金屬，非金屬及其它化合物材料進行燒結﹑融化﹑分析而研制的專用設備。