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品質是生命,服務是宗旨

Quality is life, service is the tenet

網站首頁  ◇  產品展示    ◇  CVD化學氣相沉積系統 ◇   CVD石墨烯制備
  1. 小型卷對卷連續生長CVD設備

    主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長,該回轉加熱系統集控制系統與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料,采用電阻絲為加熱元件。加熱系統設計為上下可開啟式結構,方便觀察石英管以及物料的狀態。

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  2. 薄膜材料制備

    薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境。該設備技術成熟、質量可靠,溫場均勻,結構合理,法蘭以卡箍密封,安裝拆卸簡便快捷,是各大材料實驗室的理想設備之一。

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  3. PECVD

    PECVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統,其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節約空間。

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