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　　1.采用高純氧化鋁作為爐膛材料，減小能量損失。

 

　　2.爐管采用單端封口設計，頂端安裝有不銹鋼金屬法蘭，實驗可在真空和氣氛條件下完成。

 

　　操作方式

 

　　針對實驗室的使用要求，裝卸料采用間歇式手動裝、卸料。裝料時將料盒放置在料盆支架上，打開并取出爐管一端的密封端蓋，放入帶料盒的料盒支架，再將密封端蓋安裝在爐管法蘭上并擰緊卡箍螺栓。然后通入工藝氣氛，直到爐管內氧含量達到工藝要求時進行升溫燒結。產品燒結工藝完成后，應繼續通人小量的工藝氣氛并進行降溫，直到爐內溫度低于工藝要求時，方可打開爐管密封端蓋取出產品。

 

　　立式管式爐的氣體流量控制系統。通過浮子或質量流量控制器調節進氣量，以滿足用戶在不同反應氣氛或保護氣氛條件下的實驗要求。

 

　　組成的CVD系統主要應用在新型材料測試，氧化鋅納米結構的可控生長、熒光粉材料、金屬材料、半導體材料、陶瓷材料、電化學、薄膜材料、石墨烯、碳納米管、納米線等領域。產品外觀美觀，使用方便。

 

　　適用范圍：

 

　　立式管式氣氛爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。